浙江绍兴投资50亿打造国产光刻机工厂

近日，我国浙江省绍兴市越城区宣布了一项总投资约50亿元人民币的光刻机项目落户的消息。据了解，该项目名为上海图双精密装备项目，由上海图双精密装备有限公司（以下简称“上海图双”）负责建设，分为两期实施。

一期工程预计投资约5亿元，占地35亩，主要用于将公司现有的在上海产能进行转移和扩大。二期工程预计投资约45亿元，总投入达到50亿元，目标是在2025年实现年产50-100台半导体设备的产量。

值得一提的是，尽管上海图双并非传统意义上的国产光刻机厂商，但其主营业务涵盖了半导体设备的翻新、调试以及定制化改造等服务，且技术能力已经涵盖了全球主要光刻机厂商的产品线，包括ASML、尼康、佳能等。

此项目的落地标志着我国在光刻机领域的研发和制造能力得到了进一步提升，有助于缓解我国在高端光刻机领域的短板问题。